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- 磁控溅射靶材(可为电子与半导体,平面显示行业,氧化铟锡旋转靶材,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供*靶材)高纯单质金属溅射靶材( 3N-6N ) :铝靶Al,铬靶Cr,ito旋转靶材,铜靶Cu,镍靶Ni,硅靶Si,锗靶Ge,铌靶Nb,钛钯Ti,铟靶In,银靶Ag,锡靶Sn,石墨靶C,钽靶Ta,钼靶Mo,金靶Au,铪靶Hf,锰靶Mn,锆靶Zr,镁靶Mg,锌靶Zn,铅靶Pb,铱靶Ir,钇靶Y,铈靶Ce,镧靶La,镱靶Yb,钆靶Gd,铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。
平面显示器用靶材 平面显示器(FPD) 近年来大幅冲 以阴**射线管 (CRT) 为主的电脑显示器及电视机市场,亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。
现在的1 T O靶材有两种.一 种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结,一种是采用铟锡合金靶材。
铟锡台金靶材可以采用 直流反应溅射制造 I T O薄膜,但是靶表面会氧化而影 响溅射率,氧化锌镓旋转靶材,并且不易得到大尺寸的台金靶材。
靶材简介简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。
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